高端设备驱动的精密膜层定制能力

（一）核心镀膜设备与技术优势
日本光驰光学镀膜机：采用电子束蒸发与离子辅助镀膜技术，配备高精度晶振厚度监控系统（分辨率达 0.1nm），可实现可见光到红外波段的多层膜系沉积。支持复杂膜系设计，如高反膜（反射率＞99.9%）、带通滤光膜。 搭配离子源辅助可以满足高功率的要求。如20J@1064nm,10ns,10Hz.
金属溅射式镀膜机: 采用磁控溅射技术，可在玻璃、金属、陶瓷等基底上沉积金、银、铜、铝等金属膜层，膜厚控制精度达 ±1nm。膜层致密度高，附着力通过百格测试, 解决了金属膜易脱落的技术痛点。
紫外低吸收镀膜机：专为紫外波段（190nm~400nm）设计，配备真空紫外光谱监控系统，可抑制膜层在深紫外区的吸收损耗。在 193nm 波段实现膜层吸收率＜0.5%，适用于半导体光刻设备的准分子激光镜片，反射率＞99.5%（193nm），耐激光损伤阈值＞10J/cm²。
二、检测服务：高精度仪器构建的全维度质量验证体系
公司配备了高精密角度测量仪，测角精度 ±1″，分辨率 0.1″，支持光学元件的角度偏差的测量。激光干涉仪：面形测量精度达 λ/20（λ=633nm），膜厚测量分辨率 1nm，支持平面、球面、非球面的面形误差分析（如 PV 值、RMS 值）。日本岛津 UV3600 分光光度计：测范围：190nm~3300nm，波长精度 ±0.1nm，光度精度 ±0.05% T，可实现透过率、反射率、吸收率的全光谱分析。